Équipement de lithographie
Gore contribue aux avancées dans la fabrication de semiconducteurs en proposant des câbles configurés sur mesure qui délivrent des performances fiables et ultrapropres dans les applications de lithographie et de vide. Nos solutions aident à réduire la maintenance et les temps d’arrêt des câbles, réduisant ainsi les coûts totaux tout au long du cycle de vie de l’équipement.
Renforcer la précision de la lithographie
Gore collabore avec les principaux fabricants de semiconducteurs pour développer des câbles fiables sur mesure pour les systèmes de lithographie qui fonctionnent dans des environnements ultrapropres et ultravides. Nos connaissances approfondies, notre expertise des matériaux, nos processus de nettoyage et nos tests de qualité rigoureux nous permettent de concevoir des câbles assemblés innovants pour les applications lithographiques afin d’aider nos clients à répondre aux demandes très évolutives de ce secteur.
Améliorer les performances dans les environnements à vide poussé
Les procédés de lithographie EUV (ultraviolet extrême) et DUV (ultraviolet profond) exigent une précision, une propreté et une fiabilité exceptionnelles, en particulier avec des technologies de nouvelle génération comme les systèmes de lithographie à haute ouverture numérique (UV extrême). Gore prend en charge ces technologies avec des câbles hautes performances statiques et très souples conçus pour les environnements à vide poussé. Qualifiés pour les classes de propreté 1, 2 et 4, nos câbles offrent un faible dégazage, une flexibilité élevée et préservent durablement l’intégrité du signal, ce qui contribue à améliorer le débit, réduire la maintenance et répondre aux normes de performance très évolutives de ce secteur.
Suggestion de contenu
En savoir plus
